Mikro aygıt üretimi için iyon demetli aşındırmanın özelliklerinin incelenmesi
Küçük Resim Yok
Tarih
2024
Yazarlar
Dergi Başlığı
Dergi ISSN
Cilt Başlığı
Yayıncı
Ege Üniversitesi, Fen Bilimleri Enstitüsü
Erişim Hakkı
info:eu-repo/semantics/openAccess
Özet
Bu tez çalışmasında, mikroaygıt üretimi için ince film kaplaması, fotolitografi ve iyon demetli aşındırma işlemleri (IBE) yapılmış ve elde edilen aygıtların aşındırma morfolojisi AFM ile incelenmiştir. Yapılan aşındırma çalışmaları hem direkt olarak cam altlıklara, hem de bu altlıklar üzerine kaplanmış olan ITO ince filmlere uygulanmıştır. Kalınlığı optimize edildikten sonra 200 nm kalınlığında ITO (indiyum kalay oksit) ince filmler RF magnetron püskürtme ile kaplanmış ve bu filmler üzerinde 10-100 mikrometre aralığında değişen genişliklerde aygıt yapılarının desenlenebilmesi için standart UV fotolitografi işlemleri yapılmıştır. Hem cam hem de ince filmler üzerine aktarılan desenler Ar+ iyon demeti ile 90, 60 ve 45 derece açılarla aşındırılmış, böylece istenilen kenar eğimlerine sahip yapılar (özellikle de basamaklı yapılar) elde edilmiştir. Bu yapılar çok katmanlı aygıt üretimi için önemli olup, ince filmlerin katman bütünlüğü bozulmadan daha ince yapılabilmesi, üstün kontak özelliklerine sahip olması ve dolayısıyla daha performanslı aygıtlar elde edilebilmesini sağlayacak niteliktedir. Aygıt yapılarının ince filmler üzerine desenlenmesi esnasında kullanılan ıslak veya kuru aşındırma yöntemlerine etkili bir alternatif olarak IBE yönteminin kullanımı, proses detayları, parametreleri ve elde edilen yapının özellikleri bu tez kapsamında detaylı şekilde incelenmiştir.
